近日，上海新陽(yáng)在投資者互動(dòng)平臺(tái)上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機(jī)已完成廠內(nèi)安裝開(kāi)始調(diào)試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機(jī)預(yù)計(jì)12月底到貨。

上海新陽(yáng)指出，ARF193nm光刻膠是芯片制造進(jìn)入90nm銅互聯(lián)制程后最重要的主流光刻膠產(chǎn)品，一直是國(guó)內(nèi)空白。公司研發(fā)該款光刻膠意在填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白，實(shí)現(xiàn)芯片制造在關(guān)鍵工藝技術(shù)和材料技術(shù)的自主可控。經(jīng)過(guò)近三年的研發(fā)，關(guān)鍵技術(shù)已有重大突破，已從實(shí)驗(yàn)室研發(fā)轉(zhuǎn)向產(chǎn)業(yè)研發(fā)。

光刻膠技術(shù)作為上海新陽(yáng)核心戰(zhàn)略突破口，上海新陽(yáng)已經(jīng)確定在未來(lái)5-10年，將集中各種資源，對(duì)國(guó)內(nèi)尚屬空白的各類(lèi)高端半導(dǎo)體光刻膠和光刻膠配套材料進(jìn)行研發(fā)，逐步形成公司第三大核心技術(shù)-電子光刻技術(shù)。

目前，新引進(jìn)的技術(shù)專(zhuān)家團(tuán)隊(duì)已到位，各品類(lèi)研發(fā)在正常進(jìn)行，各項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)均有突破。其中，KRF光刻膠配套的光刻機(jī)已完成廠內(nèi)安裝開(kāi)始調(diào)試，預(yù)計(jì)明年上半年開(kāi)始中試。