本月初，上海新陽宣布與鄧海博士解除193nm光刻膠項目合作，業(yè)界對其該項目的后續(xù)發(fā)展頗為關(guān)注，日前上海新陽在調(diào)研活動中回應(yīng)了相關(guān)問題。

2018年3月，上海新陽發(fā)布公告稱，擬與合作方上海逸納材料科技有限責(zé)任公司（以下簡稱“上海逸納”）共同投資設(shè)立子公司上海芯刻微材料技術(shù)有限責(zé)任公司（以下簡稱“上海芯刻微”），開展193nm（ArF）干法光刻膠研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目，計劃總投資2億元人民幣。

合資公司上海芯刻微股權(quán)結(jié)構(gòu)方面，上海新陽在持股80%，上海逸納持股20%。全球最早涉足193nm光刻膠技術(shù)人員之一鄧海博士是上海逸納的法定代表人，為上海新陽193nm光刻膠項目負責(zé)人，其率領(lǐng)技術(shù)團隊負責(zé)光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)。

然而，兩者間的合作關(guān)系僅維持了一年多。5月10日，上海新陽發(fā)布公告稱，經(jīng)公司與合作方充分溝通并達成一致，擬以0元受讓合作方上海逸納持有的上海芯刻微公司20%股權(quán)， 并解除雙方簽訂的《193光刻膠項目合作開發(fā)協(xié)議》及基于“開發(fā)協(xié)議”達成的一切合作。

5月28日，上海新陽接受了二十多家機構(gòu)調(diào)研，其在會上表示，193光刻膠項目目前處于實驗室研發(fā)階段。2018年公司與鄧海博士合作設(shè)立上海芯刻微進行193ArF光刻膠項目的開發(fā)，因合作未達到預(yù)期，公司與鄧海博士解除合作，但公司還在按計劃推進該項目，同時也在著手開發(fā)i線、KrF光刻膠及其配套材料。

被問及如何解決光刻膠項目開發(fā)過程中的光刻機、人才、原材料等問題，上海新陽透露稱，公司目前已引進了曾經(jīng)任職日本知名光刻膠公司的專業(yè)從事光刻膠開發(fā)的高端技術(shù)人才，組建完成新的研發(fā)團隊。

此外，上海新陽還表示目前已購置了一臺ASML1400型二手光刻機，用于光刻膠的研發(fā)，這臺光刻機可覆蓋到55nm技術(shù)節(jié)點，后續(xù)也會配置相關(guān)研發(fā)設(shè)備。光刻膠開發(fā)所用到原材料如光敏劑、感光樹脂等公司也會同步研發(fā)，掌握其核心技術(shù)。