在當前包含物聯(lián)網(wǎng)、工業(yè)自動化、人工智能、自動駕駛、5G通訊等新科技逐漸普及的情況下，帶動了半導體的成長，并使得芯片需求大幅提升。而為了迎接這些挑戰(zhàn)，導入新的材料增加效能，在延續(xù)摩爾定律過程中，材料技術不斷演進，且應用的材料本質也開始改變。而特用化學原料暨先進科技材料龍頭供應商英特格（Entegris Inc.）即透過運用科學為基礎，以提供解決方案，并協(xié)助半導體客戶在先進制程上應對各種挑戰(zhàn)。

英特格技術長James O’Neill指出，英特格成立迄今已經(jīng)有50年歷史，去年整體營收達16億美元。而在當前新的材料、芯片、形狀都與過去不同，對于半導體制程來說都是很復雜的挑戰(zhàn)。

舉例來說，從28納米轉換到7納米，復雜程度是過去的兩倍。技術要驗證得要更快，所以整個生產(chǎn)周期時間都是更短的。這也表示我們在采用先進制程時，要達成較佳的良率更為困難，產(chǎn)業(yè)的重點就在于如何快速達到好的良率。這也就是英特格的優(yōu)勢所在。

James O’Neill表示，要提高良率重點之一是污染控制，從28納米到7納米，對于金屬雜質容忍程度已經(jīng)減少1,000倍，而晶圓致命微粒則縮小將近4倍，這點非常重要，因為只要雜質或微粒等污染的容忍程度有了細微變動，對晶圓廠獲利都會造成很大的影響。整個半導體生態(tài)系中，每個步驟都要顧慮污染控制，包括工廠中怎么制作和包裝化學品、如何運送與在工廠中使用與儲存，每個步驟都相當重要。英特格有各項產(chǎn)品和解決方案，確保整個制程、輸送時不受污染。

James O’Neill進一步強調(diào)，因為蝕刻技術的大幅進步，現(xiàn)在半導體廠開始導入的是極紫外光EUV設備及技術。而英特格在EUV制程的污染控制與光罩盒是市場領導者，旗下的過濾技術能確保材料放在pattern上維持潔凈度。此外，

半導體制程中，運用EUV的光蝕刻技術可再進一步細分成好幾個步驟，這使得英特格不僅提供光罩盒，還有特殊化學品、過濾器、過濾技術，以及制程中各方面需要的材料和污染控制，惟有英特格能夠提供最廣泛的解決方案。

James O’Neill也證實，因為目前全球半導體廠僅有3家晶圓代工廠，包括臺積電、三星及英特爾有能力持續(xù)推進先前制程，尤其龍頭臺積電預計2020年將開始量產(chǎn)6納米，以及更加先進的5納米制成，帶動臺灣未來的導體業(yè)樂觀前景。而因此，英特格確定與這3家廠商進行合作，持續(xù)提供相關解決方案給客戶，以滿足在先進制程上的需求。