2019 COMPUTEX CPX 論壇,ARM 談超越摩爾定律

2019 COMPUTEX CPX 論壇,ARM 談超越摩爾定律

今年的COMPUTEX CPX論壇邀請(qǐng)了ARM、Nvidia、Siemens及Micron等知名廠商前來(lái)講述未來(lái)人工智能的發(fā)展。

ARM IP產(chǎn)品事業(yè)群總裁Rene Haas在此次演講大膽的用超越摩爾定律為主題。眾所周知,目前新興科技應(yīng)用的興起,使得高性能芯片技術(shù)越來(lái)越受矚目。然而在半導(dǎo)體制程方面,卻開始看到了盡頭,這引發(fā)了業(yè)界的未雨綢繆。其中ARM做為處理器及相關(guān)外圍組件電路設(shè)計(jì)方案的知名研發(fā)商,采用ARM處理器架構(gòu)的相關(guān)產(chǎn)品市占近9成,其對(duì)未來(lái)計(jì)算力發(fā)展的觀點(diǎn)相當(dāng)值得關(guān)注。

處理器種類已有許多,但目前CPU仍然是主導(dǎo)人工智能發(fā)展的主要元件。不過人工智能的應(yīng)用仍有許多不同的情境,且所需的性能超乎想像,可以說目前的技術(shù)仍然處于普及這些想像的早期階段,例如自駕系統(tǒng)、邊緣運(yùn)算、行動(dòng)AI裝置等,都需要更高的蒜力。然而眾所周知,光靠半導(dǎo)體制程可能會(huì)走向一個(gè)瓶頸,但這并非沒有其他路可走。

目前有關(guān)AI的解決的方案大部分都是零碎的,但若能針對(duì)應(yīng)用場(chǎng)景,結(jié)合不同的元件,將可以組成更高效的方案,例如整合CPU、NPU及GPU的芯片方案。ARM為此提出了CoreLink Interconnect規(guī)范,在保持一致性下,最大限度地提高了數(shù)據(jù)移動(dòng)和儲(chǔ)存的效率,以最低的功耗和成本提供所需的性能。Rene Haas表示,總體運(yùn)算(Total Computing)的時(shí)代即將到來(lái)。

不僅如此,ARM在軟件上也將提供研發(fā)人員更多的工具,如Compute Library及Developments Solutions等,以加速異質(zhì)芯片整合,透過軟件生態(tài)以強(qiáng)化人工智能的運(yùn)算表現(xiàn),所有的市場(chǎng)應(yīng)用都將歸納于總體運(yùn)算策略之下。

值得一提的是,在硬件架構(gòu)上,美光科技的運(yùn)算與網(wǎng)路業(yè)務(wù)總經(jīng)理Thomas T.Eby則指出,存儲(chǔ)器對(duì)AI運(yùn)算表現(xiàn)有很大的影響,更甚于處理器,所以存儲(chǔ)器架構(gòu)的優(yōu)化勢(shì)在必行,是普及AI必須經(jīng)歷的技術(shù)門檻。無(wú)論是從固態(tài)儲(chǔ)存或是揮發(fā)性存儲(chǔ)器的性能,數(shù)據(jù)吞吐量及頻寬等關(guān)鍵性能將決定新興科技是否真能成熟應(yīng)用。

而軟件開發(fā)上,Nvidia工程副總裁Marc Hamilton在其演講中提到,AI與傳統(tǒng)編碼有所不同。對(duì)人工智能而言,應(yīng)用在機(jī)器學(xué)習(xí)上的大數(shù)據(jù),本身就是源代碼,所以用于開發(fā)AI的工具將與以往不同,而無(wú)論是硬件或軟件,Nvidia都能提供最好的技術(shù)催生平臺(tái)。

摩爾定律限制硅半導(dǎo)體發(fā)展,化合物半導(dǎo)體材料成新解?

摩爾定律限制硅半導(dǎo)體發(fā)展,化合物半導(dǎo)體材料成新解?

傳統(tǒng)硅半導(dǎo)體因自身發(fā)展侷限和摩爾定律限制,需尋找下一世代半導(dǎo)體材料,化合物半導(dǎo)體材料是新一代半導(dǎo)體發(fā)展的重要關(guān)鍵嗎?

化合物半導(dǎo)體材料的高電子遷移率、直接能隙與寬能帶等特性,恰好符合未來(lái)半導(dǎo)體發(fā)展所需,終端產(chǎn)品趨勢(shì)將由 5G 通訊、車用電子與光通訊領(lǐng)域等應(yīng)用主導(dǎo)。

手機(jī)通訊領(lǐng)域帶動(dòng)砷化鎵磊晶需求逐年提升

根據(jù)現(xiàn)行化合物半導(dǎo)體元件供應(yīng)鏈,元件制程最初步驟由晶圓制造商選擇適當(dāng)特性的基板(Substrate),以硅、鍺與砷化鎵等材料做為半導(dǎo)體元件制程的基板,基板決定后再由磊晶廠依不同元件的功能需求,于基板上長(zhǎng)成數(shù)層化合物半導(dǎo)體的磊晶層,待成長(zhǎng)完成后,再透過 IDM 廠或 IC 設(shè)計(jì)、制造與封裝等步驟,完成整體元件的制造流程,最終由終端產(chǎn)品廠商組裝和配置元件線路,生產(chǎn)手機(jī)與汽車等智慧應(yīng)用產(chǎn)品。

元件產(chǎn)品依循化合物半導(dǎo)體材料特性(如耐高溫、抗高電壓、抗輻射與可發(fā)光)加以開發(fā),將終端市場(chǎng)分為 5 個(gè)領(lǐng)域:電源控制(Power Control)、無(wú)線通訊(Wireless)、紅外線(Infrared)、太陽(yáng)能(Solar)與光通訊(Photonics)。

近年手機(jī)通訊領(lǐng)域蓬勃發(fā)展,帶動(dòng)無(wú)線模塊關(guān)鍵零組件濾波器(Filter)、開關(guān)元件(Switch)與功率放大器(Power Amplifier)等元件需求成長(zhǎng);而砷化鎵材料因具有低噪聲、低耗電、高頻與高效率等特點(diǎn),已廣泛應(yīng)用于手機(jī)通訊并占有重要地位,帶動(dòng)砷化鎵磊晶需求逐年提升。

化合物半導(dǎo)體磊晶廠未來(lái)發(fā)展

針對(duì)化合物半導(dǎo)體未來(lái)的終端市場(chǎng)需求,依照不同元件特性可分為傳輸和無(wú)線通訊的 5G 芯片、耐高溫與抗高電壓的車用芯片,以及可接收和回傳訊號(hào)的光通訊芯片三大領(lǐng)域。藉由 5G 芯片、車用芯片與光通訊芯片的元件開發(fā),將帶動(dòng)未來(lái)磊晶廠營(yíng)收和資本支出,確立未來(lái)投資方向。

由化合物半導(dǎo)體發(fā)展趨勢(shì)可知,未來(lái)元件需求將以高速、高頻與高功率等特性,連結(jié) 5G 通訊、車用電子與光通訊領(lǐng)域的應(yīng)用,突破硅半導(dǎo)體摩爾定律限制。

(Source:拓墣產(chǎn)業(yè)研究院,2019.3)

硅半導(dǎo)體元件因受限于電子遷移率(Electron Mobility)、發(fā)光效率與環(huán)境溫度等限制,難以滿足元件特性需求,因此當(dāng)化合物半導(dǎo)體出現(xiàn),其高電子遷移率、直接能隙與寬能帶等特性,為元件發(fā)展的未來(lái)性提供新契機(jī)。

隨著科技發(fā)展,化合物半導(dǎo)體的元件制程技術(shù)亦趨成熟,傳統(tǒng)硅半導(dǎo)體的薄膜、曝光、顯影與蝕刻制程步驟,皆已成功轉(zhuǎn)置到化合物半導(dǎo)體,有助于后續(xù)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)發(fā)展。

在無(wú)線通訊領(lǐng)域,現(xiàn)行廠商逐漸由原先 4G 設(shè)備更新至 5G 基礎(chǔ)建設(shè),5G 基地臺(tái)的布建密度將更甚 4G,且基地臺(tái)內(nèi)部使用的功率元件,將由寬能帶氮化鎵功率元件取代 DMOS(雙重?cái)U(kuò)散金氧半場(chǎng)效晶體管)元件。

由于砷化鎵射頻元件市場(chǎng)多由 IDM 廠(如 Skyworks、Qorvo與Broadcom)把持,因此只有當(dāng)需求超過 IDM 廠負(fù)荷時(shí),才會(huì)將訂單發(fā)包給其他元件代工廠,對(duì)其他欲投入元件代工的廠商而言則更困難。由于中國(guó)手機(jī)市場(chǎng)對(duì)射頻元件的國(guó)內(nèi)需求增加,且預(yù)期 5G 手機(jī)滲透率將提升,或許中國(guó)代工廠商的射頻制程技術(shù)提升后,可趁勢(shì)打入砷化鎵代工供應(yīng)鏈,提高射頻元件市占率。

車用芯片部分,由于使用環(huán)境要求(需于高溫、高頻與高功率下操作),并配合汽車電路上的電感和電容等,使得車用元件體積較普通元件尺寸占比大,透過化合物半導(dǎo)體中,寬能帶半導(dǎo)體材料氮化鎵和碳化硅等特性,將有助實(shí)現(xiàn)縮小車用元件尺寸。

藉由氮化鎵和碳化硅取代硅半導(dǎo)體,減少車用元件切換時(shí)的耗能已逐漸成為可能。以氮化鎵和碳化硅材料作為車用功率元件時(shí),由于寬能帶材料特性,可大幅縮減周圍電路體積,達(dá)到模塊輕量化效果,且氮化鎵和碳化硅較硅半導(dǎo)體有不錯(cuò)的散熱特性,可減少散熱系統(tǒng)模塊,進(jìn)一步朝車用輕量化目標(biāo)邁進(jìn)。

此外,車用芯片對(duì)光達(dá)(LiDAR)傳感器的應(yīng)用也很重要,為了實(shí)現(xiàn)自駕車或無(wú)人車技術(shù),先進(jìn)駕駛輔助系統(tǒng)(ADAS)的光達(dá)傳感器不可或缺,透過氮化鎵和砷化鎵磊晶材料滿足元件特性,成為光達(dá)傳感器所需。

光通訊芯片方面,為了解決金屬導(dǎo)線傳遞訊號(hào)的限制和瓶頸,因而開發(fā)以雷射光在光纖中為傳遞源的概念,突破原先電子透過金屬纜線下容易發(fā)生電阻和電容時(shí)間延遲(RC Delay)現(xiàn)象,且藉由雷射光快速傳遞和訊號(hào)不易衰退特性,使得硅光子技術(shù)(Silicon Photonics)逐漸受到重視。

由于光通訊芯片對(duì)光收發(fā)模塊的需要,PD(光偵測(cè)器)與 LD(雷射偵測(cè)器)等模塊需求上升,帶動(dòng)砷化鎵與磷化銦磊晶市場(chǎng)。

近年手機(jī)搭配 3D 感測(cè)應(yīng)用有明顯成長(zhǎng)趨勢(shì),帶動(dòng) VCSEL(垂直腔面發(fā)射激光器)元件需求增加,砷化鎵磊晶也逐步升溫,未來(lái) 3D 感測(cè)用的光通訊芯片,應(yīng)用范圍除了手機(jī),亦將擴(kuò)充至眼球追蹤技術(shù)、安防領(lǐng)域(Security)、虛擬實(shí)境(VR)與近接辨識(shí)等領(lǐng)域。

量子摩爾定律問世:量子體積每年增加一倍

量子摩爾定律問世:量子體積每年增加一倍

在近日召開的2019年美國(guó)物理學(xué)會(huì)三月會(huì)議上,IBM正式提出量子摩爾定律,同時(shí),IBM還公布了旗下最新的量子計(jì)算機(jī)IBM Q System One,這款量子計(jì)算機(jī)擁有“迄今為止最高的量子體積”。

“量子體積”是IBM提出的一個(gè)專用性能指標(biāo),用于測(cè)量量子計(jì)算機(jī)的強(qiáng)大程度,其影響因素包括量子比特?cái)?shù)、門和測(cè)量誤差、設(shè)備交叉通信、以及設(shè)備連接和電路編譯效率等。因此,量子體積越大,量子計(jì)算機(jī)的性能就越強(qiáng)大,能夠解決的實(shí)際問題就越多。

重要的是,IBM發(fā)現(xiàn)量子體積遵循一種“摩爾定律”:其量子計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)的量子體積,每年增加一倍。IBM以自家的量子計(jì)算機(jī)為例,IBM在2017年推出了Tenerife 設(shè)備(5-qubit) 已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了4量子體積;2018年推出的IBM Q設(shè)備(20-qubit),其量子體積是8;2019年推出的IBM Q System One(20-qubit),量子體積達(dá)到16。

IBM將這一規(guī)律總結(jié)為量子摩爾定律。英特爾創(chuàng)始人戈登·摩爾提出的摩爾定律認(rèn)為,集成電路上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔兩年便會(huì)增加一倍,而IBM提出的量子摩爾定律與摩爾定律類似。IBM在會(huì)上表示,IBM將在2020年實(shí)現(xiàn)量子霸權(quán)。

晶體管延續(xù)摩爾定律生命

晶體管延續(xù)摩爾定律生命

英特爾(Intel)創(chuàng)辦人Robert Noyce和Gordon Moore為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來(lái)了兩項(xiàng)重要傳承。其一是“摩爾定律”(Moore’s Law)——眾所周知,但卻經(jīng)常被誤解。其次是平面集成電路(IC)。另一位集成電路發(fā)明人Jack Kilby在2000年獲得諾貝爾獎(jiǎng)時(shí)曾經(jīng)說,“如果Noyce還活著的話,一定會(huì)和他一起因?yàn)榧呻娐范蚕碇Z貝爾獎(jiǎng)的榮耀?!?/p>

Noyce和Moore為業(yè)界帶來(lái)重大發(fā)明——商用晶體管和集成電路——雙極性接面晶體管(BJT)以及平面集成電路技術(shù),并成立了第一家公司——快捷半導(dǎo)體(Fairchild Semiconductor)。當(dāng)他們離開Fairchild后成立了英特爾,致力于打造高密度內(nèi)存以及低功耗邏輯芯片——全新的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET),并引領(lǐng)第二次的產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型。

這些芯片僅使用一種MOSFET的晶體管類型(p型或n型),具有三種電源電壓(+12V、0V或接地以及-5V)。然而,相較于使用雙極性接面晶體管制造的集成電路,他們?nèi)匀痪哂懈偷墓β室约案叩拿芏取?/p>

在那個(gè)時(shí)代,還沒有像當(dāng)今所熟知的CMOS等互補(bǔ)式MOSEFET (n型和p型)單芯片整合技術(shù)。一直到15年后,大約在1980年代初,盡管CMOS集成電路較復(fù)雜且制造成本高,但由于降低功耗的需求,CMOS整合電路成為英特爾與業(yè)界打造邏輯芯片與內(nèi)存芯片的選擇。

眾所周知,當(dāng)今的高性能運(yùn)算數(shù)據(jù)中心消耗大量的電力,而行動(dòng)運(yùn)算芯片則受到能量供應(yīng)以及電池壽命的限制。這兩個(gè)細(xì)分市場(chǎng)目前都受到每一代CMOS工藝電源電壓微縮速度放緩的挑戰(zhàn)。

針對(duì)可以使用平行運(yùn)算的應(yīng)用(例如繪圖和平行算法),我們利用多核心處理途徑來(lái)降低功耗。這正是英特爾在2005年采取的所謂“向右轉(zhuǎn)”(right-hand turn)策略。

當(dāng)然還有一些應(yīng)用無(wú)法實(shí)現(xiàn)平行化,因此被稱為單線程應(yīng)用。此外,透過互連走線在內(nèi)存與運(yùn)算邏輯之間來(lái)回移動(dòng)數(shù)據(jù)的能量,成為最主要的運(yùn)算功耗來(lái)源。

從1990年代起,業(yè)界逐步為每一工藝世代提高3倍的CMOS邏輯開關(guān)能效。這主要是透過Dennard微縮定律實(shí)現(xiàn)的——該定律規(guī)定在每個(gè)新的工藝世代,MOSFET閘極的長(zhǎng)度和寬度、電源電壓和閘極氧化層的厚度都減少0.7倍。

從5V降至1.25V,大約有三分之二的開關(guān)能量改善就來(lái)自于每一工藝世代微縮0.7倍的電源電壓(V)。遺憾的是,Dennard微縮定律在2003年130納米(nm)節(jié)點(diǎn)時(shí)止步。之后,每一世代的開關(guān)能源降低幅度因此減少了。

由于MOSFET在關(guān)斷狀態(tài)的漏電流限制,因而不可能再降低30%的電源電壓。CMOS晶體管可以被開啟或關(guān)斷的程度,取決于電子熱能分布的物理限制特性——在室溫下每10倍電流變化受限于60mV。這種效應(yīng)被稱為Boltzmann Tyranny。
由于Dennard微縮在2003年左右結(jié)束,其后每一代新工藝中的功率密度不再保持趨近于恒定,而是必須透過減慢或限制CPU頻率增加,從而克服功率密度增加的挑戰(zhàn)。

使用多個(gè)平行處理核心,就能提高運(yùn)算性能。由于摩爾定律仍持續(xù)進(jìn)展,而且使CMOS技術(shù)能夠在每代工藝提高約2倍的晶體管密度,從而降低了每一世代中的每個(gè)晶體管成本。這是摩爾定律的基本前提。

英特爾工藝技術(shù)世代中,32位算術(shù)邏輯單元的能量與延遲比較(來(lái)源:Intel)

自Dennard微縮結(jié)束后,英特爾與業(yè)界持續(xù)創(chuàng)新并致力于延續(xù)摩爾定律,引領(lǐng)業(yè)界走向所謂的MOSFET材料和組件結(jié)構(gòu)微縮的時(shí)代:

? 在90nm節(jié)點(diǎn)應(yīng)變信道,以提高信道遷移率
? 在45nm節(jié)點(diǎn)使用高k閘極電介質(zhì),以減少閘極氧化物漏電流
? 使用FinFET減少短通道在源極—漏極關(guān)斷狀態(tài)的晶體管漏電流
? FinFET技術(shù)還能以鰭片高度縮小組件面積

展望未來(lái)十年,功耗和功率密度將會(huì)被視為限制數(shù)據(jù)中心和行動(dòng)裝置運(yùn)算性能提升的因素。我們將再次面臨挑戰(zhàn),就像1980年代使用80386處理器時(shí)的情況一樣——運(yùn)算性能受到功耗或熱的限制,但事實(shí)上,這些問題最終都透過芯片封裝技術(shù)改善了。
在面臨這一挑戰(zhàn)時(shí),英特爾曾經(jīng)將微處理器制造技術(shù)從僅使用n通道MOSFET改變?yōu)椴捎没パa(bǔ)n型和p型MOSFET的CMOS,在同一工藝技術(shù)中提供了兩種晶體管。

在接下來(lái)的系列文章中,我們將繼探索在CMOS持續(xù)微縮過程的限制因素,以及如何引導(dǎo)業(yè)界走向克服挑戰(zhàn)之路。