繼半導(dǎo)體材料后，光刻機(jī)相關(guān)設(shè)備市場或受日韓貿(mào)易戰(zhàn)影響

繼半導(dǎo)體材料后，光刻機(jī)相關(guān)設(shè)備市場或受日韓貿(mào)易戰(zhàn)影響

由 中代科技評論關(guān)閉

在半導(dǎo)體設(shè)備的供應(yīng)商名單中，前15大廠商營收占總產(chǎn)值超過8成，由于半導(dǎo)體制造廠商在設(shè)備選擇上多屬于長期合作模式，因而形成目前半導(dǎo)體設(shè)備廠商大者恒大的態(tài)勢。

從全球半導(dǎo)體設(shè)備廠的總部位置來看，日本廠商占7間、美國廠商4間、歐洲廠商2間、新加坡與韓國各1間。由于美國與日本廠商為供應(yīng)鏈主要玩家，面對話題性不斷升溫的中美貿(mào)易戰(zhàn)，以及近日突發(fā)的日韓貿(mào)易關(guān)系惡化，也讓半導(dǎo)體設(shè)備供需狀況，或?qū)⒊蔀槔^半導(dǎo)體材料后市場討論的議題。

半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)聚落集中度高，美國與日本為主要玩家

從設(shè)備在半導(dǎo)體制程的位置分析，具有獨(dú)占性質(zhì)的是荷蘭光刻機(jī)廠商ASML，在半導(dǎo)體的曝光顯影制程中扮演重要角色，技術(shù)層面與市占最集中，雖然有日本廠商Canon與Nikon做為競爭對手，但市占率不及ASML。

在蝕刻制程部分，Applied-Materials、LAM Research、Tokyo Electron(TEL)、Hitachi High-Technology(HHT)是主要廠商，市占部分以LAM Research與TEL囊括近7成份額。

在晶圓清洗制程部分，日商SCREEN以市占超過5成位居首位，旗下的桶槽式(WET Bench)與單晶圓式(Single Wafer)晶圓清洗設(shè)備是市場領(lǐng)頭羊，競爭對手如韓國SEMES、LAM Research與TEL的清洗設(shè)備皆有比照SCREEN相對應(yīng)的機(jī)臺設(shè)計。

在薄膜沉積制程部分，Applied Materials占主導(dǎo)地位，其CVD(化學(xué)氣相沉積)設(shè)備市占率近6成，而在PVD(物里氣相沉積)設(shè)備部分市占率達(dá)7成，競爭對手TEL、LAM Research等分食剩余市場，值得一提的是，ASM International的原子層沉積(Atomic Layer Deposition，ALD)針對特定需求市場具有很高的機(jī)臺使用率。

最后在晶圓檢驗設(shè)備方面，美商KLA Tencor市占最高超過5成，Applied Materials與Hitachi High-Technology是主要競爭對手，而日商ADVANTEST與美商Teradyne則是晶圓測試市場的主要供應(yīng)商。

整體來說，半導(dǎo)體晶圓制造的主要設(shè)備技術(shù)供應(yīng)商以美國與日本為主，高集中度的產(chǎn)業(yè)聚落也意味著容易受各國在貿(mào)易與進(jìn)出口政策上的變動而影響產(chǎn)業(yè)狀況，例如中美貿(mào)易戰(zhàn)與近期的日韓關(guān)系惡化，均為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)添加不穩(wěn)定因子，也持續(xù)考驗供應(yīng)商對大環(huán)境的應(yīng)變能力與經(jīng)營策略。

日商半導(dǎo)體設(shè)備尚未出現(xiàn)明顯影響，然而光刻機(jī)相關(guān)設(shè)備或?qū)⒂袧撛陲L(fēng)險

日本與韓國同為亞洲區(qū)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一線集團(tuán)，而2019年8月2日，日本宣布將韓國移出適用貿(mào)易優(yōu)惠待遇的白名單后，韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)受到的影響也備受市場關(guān)注。對半導(dǎo)體設(shè)備而言，機(jī)臺在收到PO后約需半年制作時間，如果出口審核的時間能納入制作機(jī)臺的時間內(nèi)，則較不會產(chǎn)生負(fù)面影響；然而，倘若審核時間必須疊加上機(jī)臺出貨時間，對機(jī)臺出貨的優(yōu)先級及晶圓廠的產(chǎn)能規(guī)劃就會造成不小影響。

從日本半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商來看，會造成影響的獨(dú)占性或許不如半導(dǎo)體材料大，但仍不可忽略其可能影響性，尤其是在晶圓廠的產(chǎn)線配置上，多半有固定機(jī)臺與機(jī)型間相互搭配，由過去的機(jī)臺參數(shù)調(diào)整經(jīng)驗與實(shí)際產(chǎn)品驗證建構(gòu)出最有效率的生產(chǎn)線，若要變更使用機(jī)臺，即便機(jī)臺參數(shù)一致，也不能保證能得到與原來產(chǎn)品一樣的結(jié)果。因此就算半導(dǎo)體設(shè)備在功能分上有替代廠商，但若非過去驗證過的機(jī)臺，也不能抹除韓國半導(dǎo)體晶圓廠對于日本出口審核的潛在威脅。

值得一提的是，荷蘭商ASML的光刻機(jī)是晶圓制造中相當(dāng)重要且必須的設(shè)備，而ASML的光阻劑布植設(shè)備就是與日商TEL合作，晶圓做完光阻劑布植后會直接傳送進(jìn)做曝光顯影制程空間，因此ASML某些機(jī)型的光刻機(jī)，原則上是與TEL機(jī)臺聯(lián)結(jié)在一起，裝機(jī)與調(diào)機(jī)期間也是同時進(jìn)行，倘若TLE機(jī)臺出口因?qū)徍硕绊懡粰C(jī)時間，連帶也會影響光刻機(jī)建置，對于韓國積極投資擴(kuò)大半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來潛在的風(fēng)險評估，后續(xù)影響程度仍需重點(diǎn)觀察。

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為什么ASML一年最高產(chǎn)量只有30部EUV？

為什么ASML一年最高產(chǎn)量只有30部EUV？

由 中代科技評論關(guān)閉

晶圓制造產(chǎn)業(yè)進(jìn)入7納米制程之后，目前全世界僅剩臺積電與三星，再加上號稱自家10納米制程優(yōu)于競爭對手7納米制程的英特爾等，有繼續(xù)開發(fā)能力之外，其他競爭者因須耗費(fèi)大量金錢與人力物力的情況下，都已宣布放棄。

就在7納米制程節(jié)點(diǎn)以下先進(jìn)制程的領(lǐng)域，必不可少的關(guān)鍵就是極紫外線微影（EUV）設(shè)備導(dǎo)入。除了三星用在首代7納米LPP制程，臺積電也自2019年開始，將EUV導(dǎo)入加強(qiáng)版7納米+制程。

所謂的極紫外線微影設(shè)備EUV，就是Extreme Ultraviolet簡稱，使用通稱極紫外線之極短波（13.5nm）光線的微影技術(shù)，能加工至既有ArF準(zhǔn)分子雷射光微影技術(shù)不易達(dá)到之20nm以下的精密尺寸。不但能降低晶圓制造時光罩使用數(shù)量，以降低生產(chǎn)成本，并提高生產(chǎn)良率，也因能加工過去ArF準(zhǔn)分子雷射光微影技術(shù)不易達(dá)到的20nm以下之精密尺寸，更有助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)摩爾定律（Moore’s law）再往下延伸，讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展持續(xù)精進(jìn)。

因EUV設(shè)備扮演如此關(guān)鍵性的角色，使全球晶圓生產(chǎn)企業(yè)都希望獲得此設(shè)備。2012年，全球三大頂尖晶圓制造廠商英特爾、臺積電、三星等加入全球EUV市場占有率90%以上的ASML“客戶聯(lián)合投資專案”（Customer Co-Investment Program），分別取得ASML 15%、5%及3%股權(quán)，保證取得EUV優(yōu)先供貨。

聽了這么多有關(guān)EUV設(shè)備的敘述之后，或許大家都懂了這是什么樣的設(shè)備，但卻很難想像，EUV不過就是一臺微影設(shè)備，究竟體積會有多大？日前ASML就表示，目前最大年產(chǎn)量僅30臺的EUV設(shè)備，每臺重量高達(dá)180公噸，每次運(yùn)輸要用3架次貨機(jī)才能運(yùn)完。

ASML表示，目前半導(dǎo)體先進(jìn)制程不可或缺的EUV設(shè)備，每臺有超過10萬個零件，加上3千條電線、4萬個螺栓及2公里長的軟管等零組件，最大重量達(dá)180公噸，每次運(yùn)輸必要動用40個貨柜、20輛卡車，并3架次貨機(jī)才能運(yùn)完，且每部造價超過1億美元。在這么龐大的數(shù)字下，可以想見ASML為什么一年最高產(chǎn)量只有30部EUV了。

ASML光刻機(jī)已進(jìn)場 廣州粵芯首條生產(chǎn)線9月量產(chǎn)

ASML光刻機(jī)已進(jìn)場 廣州粵芯首條生產(chǎn)線9月量產(chǎn)

由 中代科技評論關(guān)閉

近日，智光電氣在投資者互動平臺上透露，其參股的廣州粵芯半導(dǎo)體采購了荷蘭ASML（艾司摩爾）光刻機(jī)，并且于今年3月中旬搬進(jìn)了粵芯半導(dǎo)體主廠房。

智光電氣表示，其目前持有廣州譽(yù)芯眾誠股權(quán)投資合伙企業(yè)30%有限合伙人份額，間接持有粵芯半導(dǎo)體股權(quán)。此外，智光電氣還在互動平臺上表示，粵芯半導(dǎo)體一期以90nm-180nm技術(shù)產(chǎn)品為主，二期以65nm-90nm技術(shù)產(chǎn)品為主。?

智光電氣表示，目前粵芯半導(dǎo)體正在做量產(chǎn)前的最后調(diào)試準(zhǔn)備。光刻機(jī)等主設(shè)備的順利進(jìn)駐，為粵芯半導(dǎo)體量產(chǎn)計劃提供了有力保障。 廣東衛(wèi)視近日也報道稱，粵芯半導(dǎo)體首條生產(chǎn)線已進(jìn)入最后的調(diào)試階段，即將在6月投片、9月量產(chǎn)。

據(jù)悉，廣州粵芯半導(dǎo)體技術(shù)有限公司于2017年12月在廣州開發(fā)區(qū)中新知識城設(shè)立，是國內(nèi)第一座以虛擬IDM (Virtual IDM) 為營運(yùn)策略的12英寸芯片廠，也是廣州第一條12英寸芯片生產(chǎn)線，目前已被列入廣東省、廣州市重點(diǎn)建設(shè)項目。該項目于2018年3月開始打樁，2018年10月按原計劃完成主廠房封頂。

根據(jù)粵芯官網(wǎng)介紹，粵芯半導(dǎo)體項目投資70億元，新建廠房及配套設(shè)施共占地14萬平方米。建成達(dá)產(chǎn)后，粵芯半導(dǎo)體將實(shí)現(xiàn)月產(chǎn)40,000片12英寸晶圓的生產(chǎn)能力，產(chǎn)品包括微處理器、電源管理芯片、模擬芯片、功率分立器件等，滿足物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、人工智能、5G等創(chuàng)新應(yīng)用的模擬芯片需求。

ASML光刻機(jī)已進(jìn)場 廣州粵芯首條生產(chǎn)線9月量產(chǎn)

ASML光刻機(jī)已進(jìn)場 廣州粵芯首條生產(chǎn)線9月量產(chǎn)

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近日，智光電氣在投資者互動平臺上透露，其參股的廣州粵芯半導(dǎo)體采購了荷蘭ASML（艾司摩爾）光刻機(jī)，并且于今年3月中旬搬進(jìn)了粵芯半導(dǎo)體主廠房。

智光電氣表示，其目前持有廣州譽(yù)芯眾誠股權(quán)投資合伙企業(yè)30%有限合伙人份額，間接持有粵芯半導(dǎo)體股權(quán)。此外，智光電氣還在互動平臺上表示，粵芯半導(dǎo)體一期以90nm-180nm技術(shù)產(chǎn)品為主，二期以65nm-90nm技術(shù)產(chǎn)品為主。?

智光電氣表示，目前粵芯半導(dǎo)體正在做量產(chǎn)前的最后調(diào)試準(zhǔn)備。光刻機(jī)等主設(shè)備的順利進(jìn)駐，為粵芯半導(dǎo)體量產(chǎn)計劃提供了有力保障。 廣東衛(wèi)視近日也報道稱，粵芯半導(dǎo)體首條生產(chǎn)線已進(jìn)入最后的調(diào)試階段，即將在6月投片、9月量產(chǎn)。

據(jù)悉，廣州粵芯半導(dǎo)體技術(shù)有限公司于2017年12月在廣州開發(fā)區(qū)中新知識城設(shè)立，是國內(nèi)第一座以虛擬IDM (Virtual IDM) 為營運(yùn)策略的12英寸芯片廠，也是廣州第一條12英寸芯片生產(chǎn)線，目前已被列入廣東省、廣州市重點(diǎn)建設(shè)項目。該項目于2018年3月開始打樁，2018年10月按原計劃完成主廠房封頂。

根據(jù)粵芯官網(wǎng)介紹，粵芯半導(dǎo)體項目投資70億元，新建廠房及配套設(shè)施共占地14萬平方米。建成達(dá)產(chǎn)后，粵芯半導(dǎo)體將實(shí)現(xiàn)月產(chǎn)40,000片12英寸晶圓的生產(chǎn)能力，產(chǎn)品包括微處理器、電源管理芯片、模擬芯片、功率分立器件等，滿足物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、人工智能、5G等創(chuàng)新應(yīng)用的模擬芯片需求。

ASML公布Q1財報，對今年展望不變

ASML公布Q1財報，對今年展望不變

由 中代科技評論關(guān)閉

全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)18日發(fā)布2019年第一季財報。第一季銷售凈額(net sales)為22億歐元，凈收入(net income)3.55億歐元，毛利率(gross margin)41.6%。因邏輯芯片客戶需求強(qiáng)勁，公司對于今年的前景展望保持不變。

艾司摩爾(ASML)預(yù)估2019年第二季銷售凈額約落在25~26億歐元，比第一季增加，毛利率約為41~42%。

ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得(Peter Wennink)表示，由于EUV系統(tǒng)出貨量和DUV獲利能力優(yōu)于計劃，第一季的銷售額和毛利率略高于業(yè)績指引(guidance)。邏輯芯片客戶對于技術(shù)節(jié)點(diǎn)轉(zhuǎn)換的強(qiáng)勁需求將帶動公司在2019年加速增長。ASML同時預(yù)見在應(yīng)用產(chǎn)品和裝機(jī)方面的營收持續(xù)成長，對于今年的前景展望保持不變。

ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得(Peter Wennink)指出，ASML的NXE:3400C量產(chǎn)型極紫外光系統(tǒng)已經(jīng)開始協(xié)助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)最先進(jìn)的邏輯技術(shù)節(jié)點(diǎn)，預(yù)計這也將驅(qū)動DRAM存儲器產(chǎn)業(yè)采用EUV。ASML認(rèn)為5G通訊、汽車、人工智能和資料中心等應(yīng)用，會持續(xù)驅(qū)動市場對于半導(dǎo)體需求，因此再次確認(rèn)對于2020年及以后的長期展望保持樂觀。然而從短期來看，宏觀經(jīng)濟(jì)的發(fā)展仍然對于市場需求帶來一些不確定因素。

ASML今年計劃出貨30臺EUV設(shè)備

ASML今年計劃出貨30臺EUV設(shè)備

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1月23日，全球光刻機(jī)巨頭ASML發(fā)布其2018年第四季度及全年業(yè)績。

數(shù)據(jù)顯示，2018年第四季度ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額31億歐元，凈收入7.88億歐元，毛利率為44.3%。ASML首席執(zhí)行官聲明中指出，公司第四季度銷售額高于預(yù)期，銷售額和盈利能力均創(chuàng)下2018年新紀(jì)錄。在這一季度里，ASML收到了5份EUV訂單，并宣布推出規(guī)格為每小時170片晶圓、可用率超過90％的NXE：3400C，該系統(tǒng)將于2019年下半年提供給客戶。

縱觀2018年，ASML全年實(shí)現(xiàn)凈銷售額109億歐元，凈收入26億歐元。ASML表示，從財務(wù)角度看2018年是非常好的一年，且過去一年在技術(shù)創(chuàng)新方面取得了至關(guān)重要的成功，將在未來幾年推動業(yè)績增長；ASML已與尼康簽署和解協(xié)議，以解決因尼康發(fā)起的涉嫌專利侵權(quán)的法律糾紛，這對2018年的毛利率產(chǎn)生了1.31億歐元的負(fù)面影響。

展望2019年第一季度，ASML預(yù)計凈銷售額約為21億歐元，毛利率約為40％；研發(fā)費(fèi)用約為4.8億歐元，SG＆A費(fèi)用約為1.3億歐元，目標(biāo)有效年化稅率約為14％。

ASML指出，第一季度較低的收入指引值是由于2018年第四季度的收入拉動以及一家供應(yīng)商ProDrive起火和一些系統(tǒng)需求變化導(dǎo)致的出貨量下降所致。ProDrive火災(zāi)導(dǎo)致部分生產(chǎn)及庫存受損，預(yù)計第一季度銷售將受到約3億歐元的負(fù)面影響，但將于第二季度基本恢復(fù)、下半年將可完全恢復(fù)；此外，部分客戶2018年第四季度末作出反應(yīng)，將2019年上半年采購的光伏系統(tǒng)推遲到下半年提貨以平衡終端市場的供需。

至于2019年全年，ASML認(rèn)為市場需求將助力今年成為ASML的另一個銷售增長年，其預(yù)期上半年的消化期是正產(chǎn)的，但下半年需求將比上半年顯著增強(qiáng)，有望高出50%。

據(jù)其透露，2019年已有30臺EUV系統(tǒng)設(shè)備出貨計劃，其中包括DRAM內(nèi)存客戶的首批量產(chǎn)系統(tǒng)，預(yù)期今年第一款商用EUV芯片將進(jìn)入消費(fèi)市場；Logic部門預(yù)計將成為增長動力，有望在客戶最先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的技術(shù)轉(zhuǎn)型和生產(chǎn)能力方面進(jìn)行大力投資，這將推動對EUV和沉浸式系統(tǒng)的需求；此外ASML強(qiáng)調(diào)，2019年繼續(xù)看到對中國出口的強(qiáng)勁需求。

長遠(yuǎn)看來，盡管當(dāng)前環(huán)境存在一些不確定性，但ASML仍對其在2020年及以后的銷售和利潤目標(biāo)充滿信心，將朝著2020年毛利率超過50%的目標(biāo)邁進(jìn)。由于對長期增長保持信心，ASML將在4月24日舉行的年度股東大會上提議將股息提高50%，達(dá)到每股2.10歐元。