英特爾擬在以色列建芯片新工廠

英特爾擬在以色列建芯片新工廠

北京時(shí)間1月29日消息,援引以色列一家新聞網(wǎng)站周一的報(bào)導(dǎo)稱,美國芯片制造商英特爾計(jì)劃斥資400億謝克爾(約合108.9億美元),在以色列興建一座新工廠,并已向以色列政府申請(qǐng)占投資總額10%的財(cái)政撥款。

據(jù)以色列《環(huán)球報(bào)》(Globes)的報(bào)道稱,如果該計(jì)劃得以實(shí)施,這將是英特爾在以色列有史以來最大的一筆投資。如果該公司的申請(qǐng)獲得批準(zhǔn),其規(guī)??赡軙?huì)達(dá)到400億新謝克爾,也將創(chuàng)下歷史紀(jì)錄。

據(jù)以色列《環(huán)球報(bào)》(Globes)的報(bào)道稱,英特爾與以色列財(cái)政部的投資談判幾周前就已開始,目前仍在進(jìn)行中。報(bào)道還稱,英特爾全球管理層尚未做出最終決定。英特爾此前曾表示,該工廠可能將在愛爾蘭、美國或以色列建造。

有消息稱,這筆位于以色列南部城市凱爾耶特蓋特(Kiryat Gat)的投資金額最終可能會(huì)有所降低。英特爾拒絕對(duì)此置評(píng)。

此前英特爾曾承諾,公司計(jì)劃在2018年至2020年間投資約180億謝克爾(約合50億美元)擴(kuò)大其在凱爾耶特蓋特現(xiàn)有工廠產(chǎn)能。

《環(huán)球報(bào)》的報(bào)道稱,與以色列政府談判中的新建廠協(xié)議,可能包括免除與與以色列土地管理局(Israel Land Administration)的投標(biāo)義務(wù);此外,英特爾已經(jīng)在為建設(shè)基列亞特加特新工廠做物理基礎(chǔ)設(shè)施準(zhǔn)備。

總部位于美國加州圣克拉拉的英特爾是以色列最大的雇主和出口商之一,其許多新技術(shù)都是在以色列開發(fā)的。 除了在凱爾耶特蓋特的工廠外,英特爾的全球活動(dòng)幾乎在以色列都有廣泛發(fā)展。英特爾最先進(jìn)的商用和個(gè)人電腦9G工藝的開發(fā)、架構(gòu)和設(shè)計(jì),出自以色列Haifa基地,而自動(dòng)駕駛汽車研發(fā)活動(dòng),則基于英特爾所收購的位于耶路撒冷的Mobileye。

美光支付英特爾15億美元分手費(fèi),獨(dú)自收購IMFT

美光支付英特爾15億美元分手費(fèi),獨(dú)自收購IMFT

之前,存儲(chǔ)器大廠美光(Micron)跟處理器龍頭英特爾(Intel)合資成立了 Intel-Micron Flash Technologies(IMFT)公司,聯(lián)合研發(fā) NAND Flash 及革命性的 3D XPoint 存儲(chǔ)器。但是,雙方合作十多年之后已經(jīng)漸行漸遠(yuǎn),2018 年宣布分手,而合資公司 IMFT 將被美光收購。于是,1 月 15 日美光正式宣布,進(jìn)行收購 IMFT 的計(jì)劃。其中,英特爾將獲得 15 億美元的分手費(fèi),之后英特爾本身也將建立自己的 NAND Flash 及 3D XPoint 存儲(chǔ)器的生產(chǎn)能力。

說起英特爾和美光的合作開發(fā) NAND Flash 的歷史非常久遠(yuǎn),早在 2005 年,兩家公司就聯(lián)合成立一家 Intel-Micron Flash Technologies(IMFT)公司,以專門制造 NAND Flash 快閃存儲(chǔ)器為主。直到 2015 年,這家合資的 IMFT 公司研發(fā)出全新的 3D XPoint 技術(shù)快閃存儲(chǔ)器。根據(jù)資料顯示,3D XPoint 技術(shù)快閃存儲(chǔ)器將是目前快閃存儲(chǔ)器速度及耐用性的1,000 倍,容量密度則是 NAND Flash 快閃存儲(chǔ)器的 10 倍。

目前,美光及英特爾合作的 3D XPoint 快閃存儲(chǔ)器主要是在美國猶他州的工廠生產(chǎn),雙方未來將繼續(xù)通力合作完成第二代 3D XPoint 技術(shù)開發(fā),并且將會(huì)在 2019 年上半年完成上市之后,兩家就會(huì)正式分道揚(yáng)鑣,各自開發(fā)以 3D XPoint 技術(shù)為主的第三代產(chǎn)品。

據(jù)了解,雙方分手之后要各自組建獨(dú)立的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。其中,英特爾在 2018 年 9 月份就已經(jīng)宣布,將在美國新墨西哥州的工廠新增 100 多個(gè)職缺,主要就是 3D XPoint 快閃存儲(chǔ)器技術(shù)研發(fā)。在此之前,英特爾已經(jīng)在中國大連投資 55 億美元,并且興建了 3D NAND Flash 的生產(chǎn)線,2018 年 9 月份也正式開始量產(chǎn)。

另外,對(duì)于 NAND Flash 快閃存儲(chǔ)器及 3D XPoint 生產(chǎn),雙方之前就已經(jīng)談妥,在英特爾自己的 3D XPoint 工廠建成之前,IMFT 還會(huì)繼續(xù)給英特爾提供存儲(chǔ)器。所以,分手之后雙方各自的儲(chǔ)存業(yè)務(wù)都不會(huì)受到影響。而就在美光公司 15 日宣布行使收購 IMFT 的權(quán)力之后,美光將支付給英特爾 15 億美元的現(xiàn)金,同時(shí)承擔(dān) IMFT 公司大約 10 億美元的債務(wù)。而整體交易的完成時(shí)間將要看英特爾的決定,最快在未來 6 個(gè)月到 12 個(gè)月內(nèi)完成。

英特爾與重慶合作打造FPGA產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)

英特爾與重慶合作打造FPGA產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)

100個(gè)FPGA應(yīng)用

FPGA指現(xiàn)場可編程門陣列,英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心展示了超過100個(gè)FPGA應(yīng)用,涉及人工智能、無人駕駛、5G等應(yīng)用場景。

“五個(gè)一”工程

英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心目標(biāo)為“五個(gè)一”工程,即一個(gè)先進(jìn)的FPGA端到端平臺(tái)、一個(gè)綜合的英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心、一套專業(yè)的FPGA人才培養(yǎng)體系、一系列FPGA高端產(chǎn)業(yè)峰會(huì)及前沿創(chuàng)新大賽、一片最具影響力的FPGA產(chǎn)業(yè)聚集區(qū)。

275億美元

預(yù)計(jì)到2021年,F(xiàn)PGA芯片市場可達(dá)到275億美元的規(guī)模。延伸行業(yè)市場可突破千億美元。

1月14日上午,西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)內(nèi),英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心迎來一群參觀者。

“這是今天上午第二批參觀的人了?!庇⑻貭朏PGA中國創(chuàng)新中心的工作人員介紹,該中心自去年12月19日揭牌啟運(yùn)以來,幾乎每天都有人來參觀、學(xué)習(xí)、交流。參觀者來自政府部門、創(chuàng)新企業(yè)、大學(xué)院校等。

事實(shí)上,F(xiàn)PGA是集成電路領(lǐng)域的一項(xiàng)特殊技術(shù),英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心是英特爾在全球范圍內(nèi)布局的規(guī)模最大的FPGA創(chuàng)新中心,也是迄今為止,英特爾在亞洲唯一的FPGA創(chuàng)新中心。

展示FPGA應(yīng)用超過100項(xiàng)

所謂FPGA,指現(xiàn)場可編程門陣列,是一種半定制電路,具備可編程、可重復(fù)配置等優(yōu)點(diǎn)。

簡單來說,以前的芯片出廠后,其功能與用途無法再進(jìn)行調(diào)整。而FPGA芯片,可實(shí)現(xiàn)功能與用途的調(diào)整。就像多功能瑞士軍刀,既可以在需要裁剪的時(shí)候變成剪刀,也可以在需要擰螺絲的時(shí)候變成螺絲刀,還可以靈活地變成水果刀。

在FPGA出現(xiàn)之前,所有集成電路都好比是雕塑,要雕出成品,往往要浪費(fèi)很多半成品和原料。FPGA出現(xiàn)后,集成電路就像塊橡皮泥,想捏成什么樣隨你。如果捏得不行,可以重新再捏。因此,F(xiàn)PGA有助于企業(yè)對(duì)應(yīng)用進(jìn)行不斷優(yōu)化,加速自身技術(shù)迭代,提高驗(yàn)證的容錯(cuò)率。

此外,F(xiàn)PGA還有一些其他優(yōu)勢,比如其性能高、功耗低。隨著技術(shù)的發(fā)展,F(xiàn)PGA在泛人工智能、5G通訊、自動(dòng)駕駛、云計(jì)算、智能終端、工業(yè)等方面表現(xiàn)出極大的優(yōu)勢。

“FPGA比較抽象,所以我們在布局英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心時(shí),就專門布置了一個(gè)應(yīng)用展示廳。通過具體的應(yīng)用,可以讓更多人了解FPGA的具體情況?!庇⑻貭朏PGA中國創(chuàng)新中心總經(jīng)理張瑞表示,該展示廳共展示了超過100個(gè)FPGA應(yīng)用,目前也是眾多人士前來參觀的重點(diǎn)區(qū)域。

該展示廳涉及的應(yīng)用包括人工智能、自動(dòng)駕駛、5G等應(yīng)用場景。比如通過英特爾FPGA技術(shù)處理的實(shí)時(shí)視頻處理平臺(tái),跟傳統(tǒng)平臺(tái)相比,其清晰度、亮度、實(shí)時(shí)性都有明顯的提升。又如重慶大學(xué)在英特爾FPGA基礎(chǔ)上研發(fā)的智慧調(diào)音系統(tǒng)。通過這一系統(tǒng),人們在唱歌、樂器演奏時(shí),可以根據(jù)不同的音色自動(dòng)對(duì)其進(jìn)行調(diào)整、修正,起到一種“自動(dòng)修音”效果。

打造FPGA人才高地

展示廳的目的,是為了讓更多人認(rèn)識(shí)、了解FPGA,也讓更多人能夠使用FPGA。不過,就FPGA本身而言,是集成電路領(lǐng)域的一項(xiàng)特殊技術(shù),因其門檻高,人才儲(chǔ)備、尤其是國內(nèi)的人才儲(chǔ)備非常少。

所以,英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心今年的主要目標(biāo)之一,就是構(gòu)建人才培養(yǎng)和認(rèn)證體系,打造專業(yè)的FPGA培訓(xùn)和認(rèn)證。

與高校合作,是英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心人才培育的重要方式之一。張瑞介紹,西永緊鄰大學(xué)城,有豐富的人才資源,這也是當(dāng)初選擇將英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心落戶西永的原因之一。

在具體舉措上,英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心會(huì)建立高校教師與行業(yè)人才雙向交流機(jī)制,鼓勵(lì)有條件的高校建立FPGA學(xué)院、FPGA研究院或FPGA交叉研究中心,推動(dòng)科教結(jié)合、產(chǎn)教融合協(xié)同育人的模式創(chuàng)新,多渠道培養(yǎng)FPGA領(lǐng)域創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)人才;引導(dǎo)企業(yè)/高校通過增量支持和存量調(diào)整,穩(wěn)步增加相關(guān)學(xué)科專業(yè)的合理確定層次結(jié)構(gòu),加大FPGA領(lǐng)域人才培養(yǎng)力度;加強(qiáng)教材建設(shè);加快FPGA領(lǐng)域科技成果和資源向教育教學(xué)轉(zhuǎn)化,推動(dòng)FPGA重要方向的教材和在線開放課程建設(shè);開展普及教育;鼓勵(lì)、支持高校相關(guān)教學(xué)、科研資源對(duì)外開放,建立面向青少年和社會(huì)公眾的FPGA科普公共服務(wù)平臺(tái)。

共建FPGA創(chuàng)新生態(tài)

除了人才培育,英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心今年還有一個(gè)目標(biāo),便是在今年3月份,正式上線英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心云加速平臺(tái)。

該加速平臺(tái)共配備了近百臺(tái)服務(wù)器,100塊英特爾FPGA加速板卡,理論上可以同時(shí)服務(wù)100個(gè)企業(yè)。據(jù)了解,借助FPGA創(chuàng)新加速平臺(tái),企業(yè)可以在云端與該中心連接。就企業(yè)而言,這無疑減少了創(chuàng)新的門檻與成本。

“這樣一來,英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心雖坐落重慶,卻可輻射全國?!睆埲鸨硎?,英特爾希望的是借助英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心,打造一個(gè)FPGA創(chuàng)新生態(tài)。

事實(shí)上,在英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心落戶重慶時(shí),便提出了“五個(gè)一”工程,即一個(gè)先進(jìn)的FPGA端到端平臺(tái)、一個(gè)綜合的英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心、一套專業(yè)的FPGA人才培養(yǎng)體系、一系列FPGA高端產(chǎn)業(yè)峰會(huì)及前沿創(chuàng)新大賽、一片最具影響力的FPGA產(chǎn)業(yè)聚集區(qū)。

端到端平臺(tái),便是此前說的“英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心云加速平臺(tái)”;創(chuàng)新中心,則是依托西永微電園,打造集培訓(xùn)、認(rèn)證,產(chǎn)業(yè)孵化、應(yīng)用展示及空間活動(dòng)為一體的綜合性專業(yè)創(chuàng)新孵化加速中心。

“高端峰會(huì)和創(chuàng)新大賽,則計(jì)劃在重慶落地?!睆埲鸨硎荆@類活動(dòng),能夠起到明顯的宣傳推廣作用,從而實(shí)現(xiàn)探索FPGA發(fā)展、發(fā)掘優(yōu)秀創(chuàng)新項(xiàng)目、吸引國內(nèi)外創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì)入駐的目標(biāo)。

一系列舉措的最終目的,便是實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)聚集區(qū)。在該中心落戶重慶時(shí),英特爾公司全球副總裁兼中國區(qū)總裁楊旭曾表示,英特爾希望借助這一中心,與重慶一起,打造中國FPGA領(lǐng)域的智力高地和產(chǎn)業(yè)高地,深度聚集產(chǎn)業(yè)資源,加速以FPGA為核心的全球化科技創(chuàng)新,推進(jìn)相關(guān)產(chǎn)業(yè)落地和培養(yǎng)創(chuàng)新人才,促進(jìn)中國FPGA創(chuàng)新生態(tài)健康蓬勃發(fā)展。

第三方數(shù)據(jù)顯示,預(yù)計(jì)到2021年,包括加速器市場在內(nèi)的FPGA芯片全球市場份額可達(dá)到275億美元,其延伸份額可突破千億級(jí)。英特爾FPGA中國創(chuàng)新中心落戶重慶,有助于重慶成為全國FPGA的高地,在產(chǎn)業(yè)和市場上,贏得先機(jī)。

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英特爾宣布 10 納米處理器年底問世,但仍以筆電使用優(yōu)先

英特爾宣布 10 納米處理器年底問世,但仍以筆電使用優(yōu)先

做為全球處理器龍頭,英特爾 (intel) 在本屆 CES 當(dāng)中推出了多款 PC、服務(wù)器、資料中心及 5G 相關(guān)芯片及技術(shù)。首先在 PC 處理器的方面,10 納米代號(hào) Ice Lake 處理器正式亮相,使用的是 Sunny Cove 核新架構(gòu),預(yù)計(jì)將于 2019 年底率先由 OEM 廠商出貨。

雖然,英特爾在 2017 年底推出了首個(gè) 10 納米制程,代號(hào) Cannon lake 的處理器,但只有一款 Core i3-8121U,所以并不能真正代表 10 納米處理器的量產(chǎn)。這使得英特爾 10 納米處理器何時(shí)量產(chǎn)上市,一直是沖擊英特爾營運(yùn)最大的不利因素之一。對(duì)此,英特爾官方一直都是表示 10 納米制程處理器的正式量產(chǎn)時(shí)間將在 2019 年底的假期購物季。

現(xiàn)在,對(duì)于真正的 10 納米制程處理器,也就是代號(hào) Ice Lake 的處理器,在這次在 CES 上才正式確認(rèn)它,并公布了相關(guān)的性能。代號(hào) Ice Lake 的 10 納米制程處理器除了使用 2018 年底宣布的 Sunny Cove 架構(gòu)之外,還增強(qiáng)了微架構(gòu),可進(jìn)行更多操作。此外,還內(nèi)建降低延遲的新算法、增加關(guān)鍵緩沖區(qū)和緩存的大小,并優(yōu)化以數(shù)據(jù)為中心的工作負(fù)載,最后,還針對(duì)特定用例和算法的架構(gòu)進(jìn)行擴(kuò)展。

而除了處理器內(nèi)核架構(gòu)升級(jí)之外,10 納米制程的 Ice Lake 處理器還會(huì)用上 Gen11 核內(nèi)顯示,如此讓浮點(diǎn)性能大幅提升到 1TFlops 以上之外,還支援英特爾自適應(yīng)垂直同步技術(shù)。此外,Ice Lake 處理器還是首個(gè)整合 Thunderbolt 3 以及 Wi-Fi 6 的處理器,同時(shí)還支援用于 AI 加速的英特爾 DLBoost 指令集。

綜合來看,英特爾 10 納米制程的 Ice Lake 處理器上的技術(shù)亮點(diǎn)不少,包括全新制程、全新架構(gòu)、全新核顯以及新一代 IO 技術(shù)。不過,雖然英特爾宣布將在 2019 年底前推出,但是壞消息是 2019 年底將由 OEM 廠商率先推出,這也就是說首發(fā)的 10 納米制程 Ice Lake 處理器主要是筆電產(chǎn)品,而非零售產(chǎn)品,DIY 玩家能夠買到 Ice Lake 處理器的時(shí)間依然落在 2020 年。

英特爾在7nm將依靠EUV技術(shù)實(shí)現(xiàn)

英特爾在7nm將依靠EUV技術(shù)實(shí)現(xiàn)

隨著晶圓代工廠臺(tái)積電及記憶體廠三星電子的7納米邏輯制程均支援極紫外光(EUV)微影技術(shù),并會(huì)在2019年進(jìn)入量產(chǎn)階段,半導(dǎo)體龍頭英特爾也確定正在開發(fā)中的7納米制程會(huì)支援新一代EUV技術(shù)。

英特爾10納米制程推進(jìn)不如預(yù)期,導(dǎo)致14納米產(chǎn)能供不應(yīng)求,并造成2018年第四季以來的處理器缺貨問題,預(yù)期要等到2019年第二季才會(huì)獲得紓解。英特爾日前已宣布將擴(kuò)大資本支出提升產(chǎn)能,并且預(yù)期10納米Ice Lake處理器將在今年第四季量產(chǎn)出貨。

至于英特爾未來制程微縮計(jì)劃,據(jù)外電報(bào)導(dǎo),掌管英特爾制程及制造業(yè)務(wù)技術(shù)及系統(tǒng)架構(gòu)事業(yè)的總裁兼首席工程師Murthy Renduchintala日前指出,10納米制程與2014年訂定的制程標(biāo)準(zhǔn)相同,不論性能、密度、功耗等都保持不變。另外,有了10納米的制程研發(fā)經(jīng)驗(yàn),英特爾7納米發(fā)展良好,并將加入新一代EUV微影技術(shù),由于10納米及7納米是由不同團(tuán)隊(duì)開發(fā),7納米EUV制程不會(huì)受到10納米制程延遲影響。不過,英特爾未提及7納米何時(shí)可進(jìn)入量產(chǎn)。

據(jù)猜測,英特爾原原計(jì)劃10nm后第四年推出,所以就是2020年底,假如真能做到,那么10nm制程將會(huì)是最短命的一代制程。

按照估計(jì),Intel可能還要配置多20~40臺(tái)ASML的7nm EUV光刻機(jī)來達(dá)到月產(chǎn)10萬片的能力。(7nm EUV光刻機(jī)單臺(tái)售價(jià)1.2億美元。)

業(yè)界指出,臺(tái)積電及三星的7納米EUV制程2019年逐步提升產(chǎn)能,但要開始真正大量進(jìn)行投片量產(chǎn),應(yīng)該要等到2020年之后。英特爾的7納米EUV制程要真正進(jìn)入生產(chǎn)階段,預(yù)期也要等到2020年或2021年之后。不過,以三大半導(dǎo)體廠的計(jì)劃來看,EUV微影技術(shù)將成為7納米及更先進(jìn)制程的主流。

EUV光刻技術(shù)發(fā)展態(tài)勢

光刻(lithography)為集成電路微細(xì)化的最關(guān)鍵技術(shù)。當(dāng)前在16/14nm節(jié)點(diǎn)乃至10及7nm節(jié)點(diǎn),芯片制造商普遍還在使用193nm ArF浸潤式光刻機(jī)+多重成像技術(shù),但采用多重成像技術(shù)后將增加曝光次數(shù),導(dǎo)致成本顯著上升及良率、產(chǎn)出下降等問題。根據(jù)相關(guān)企業(yè)的規(guī)劃,在7/5nm節(jié)點(diǎn),芯片生產(chǎn)將導(dǎo)入極紫外(EUV)光刻技術(shù),EUV光刻使用13.5nm波長的極紫外光,能夠形成更為精細(xì)的曝光圖像。芯片廠商計(jì)劃將EUV光刻應(yīng)用到最困難的光刻工序,即金屬1層以及過孔生成工序,而其他大部分工序則仍將延用193nm ArF浸潤式光刻機(jī)+多重成像來制作。據(jù)EUV光刻機(jī)生產(chǎn)商阿斯麥(ASML)稱,相比浸潤式光刻+三重成像技術(shù),EUV光刻技術(shù)能夠?qū)⒔饘賹拥闹谱鞒杀窘档?%,過孔的制作成本降低28%。

EUV光刻的關(guān)鍵技術(shù)包括EUV光源和高數(shù)值孔徑(NA)鏡頭,前者關(guān)乎光刻機(jī)的吞吐量(Throughput),后者關(guān)乎光刻機(jī)的分辨率(Resolution)和套刻誤差(Overlay)能力等。目前,全球EUV光刻機(jī)生產(chǎn)基本上由荷蘭阿斯麥公司所壟斷,其最新 NXE:3400B EUV機(jī)型,采用245W光源,在實(shí)驗(yàn)條件下,未使用掩膜保護(hù)膜(pellicle),已實(shí)現(xiàn)每小時(shí)曝光140片晶圓的吞吐量;該機(jī)型在用戶端的測試中,可達(dá)到每小時(shí)曝光125片晶圓的吞吐量,套刻誤差2nm;按照阿斯麥公司EUV技術(shù)路線規(guī)劃,公司將在2018年底前,通過技術(shù)升級(jí)使NXE:3400B EUV機(jī)型的套刻誤差減小到1.7nm以下,滿足5nm制程的工藝需求;在2019年中,采用250W EUV光源,達(dá)到每小時(shí)145片晶圓的量產(chǎn)吞吐量;在2020年,推出升級(jí)版的NXE:3400C EUV機(jī)型,采用250W EUV光源達(dá)到155片/時(shí)的量產(chǎn)吞吐量。總體上,目前的250W EUV光源已經(jīng)可以滿足7nm甚至5nm制程的要求,但針對(duì)下一代的EUV光源仍有待開發(fā)。據(jù)估算,在3nm技術(shù)節(jié)點(diǎn),對(duì)EUV光源的功率要求將提升到500W,到了1nm技術(shù)節(jié)點(diǎn),光源功率要求甚至將達(dá)到1KW。

高數(shù)值孔徑(High-NA)光學(xué)系統(tǒng)方面,由于極紫外光會(huì)被所有材料(包括各種氣體)吸收,因此極紫外光光刻必需在真空環(huán)境下,并且使用反射式透鏡進(jìn)行。目前,阿斯麥公司已開發(fā)出數(shù)值孔徑為0.33的EUV光刻機(jī)鏡頭,阿斯麥正在為3nm及以下制程采開發(fā)更高數(shù)值孔徑(NA)光學(xué)系統(tǒng),公司與卡爾蔡司公司合作開發(fā)的數(shù)值孔徑為0.5的光學(xué)系統(tǒng),預(yù)計(jì)在2023-2024年后量產(chǎn),該光學(xué)系統(tǒng)分辨率(Resolution)和生產(chǎn)時(shí)的套刻誤差(Overlay)比現(xiàn)有系統(tǒng)高出70%,每小時(shí)可以處理 185 片晶圓。

除光刻機(jī)之外,EUV光刻要在芯片量產(chǎn)中應(yīng)用仍有一些技術(shù)問題有待進(jìn)一步解決,如:光刻膠、掩膜、掩膜保護(hù)薄膜(pellicle)。

光刻膠方面,要實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)要求光刻膠的照射反應(yīng)劑量水平必須不高于20mJ/cm2。而目前要想得到完美的成像,EUV光刻膠的照射劑量普遍需要達(dá)到30-40mJ/cm2。在30mJ/cm2劑量水平,250w光源的EUV光刻機(jī)每小時(shí)吞吐量只能達(dá)到90片,顯著低于理想的125片。由于EUV光刻產(chǎn)生的一些光子隨機(jī)效應(yīng),要想降低光刻膠的照射劑量水平仍需克服一系列挑戰(zhàn)。其中之一是所謂的光子發(fā)射噪聲現(xiàn)象。光子是光的基本粒子,成像過程中照射光光子數(shù)量的變化會(huì)影響EUV光刻膠的性能,因此會(huì)產(chǎn)生一些不希望有的成像缺陷,比如:線邊緣粗糙(line-edge roughness:LER)等。

光掩膜版,EUV光刻使用鏡面反射光而不是用透鏡折射光,因此EUV光刻采用的光掩膜版也需要改成反射型,改用覆蓋在基體上的硅和鉬層來制作。同時(shí),EUV光刻對(duì)光掩膜版的準(zhǔn)確度、精密度、復(fù)雜度要求比以往更高。當(dāng)前制作掩膜版普遍使用的可變形狀電子束設(shè)備(VSB),其寫入時(shí)間成為最大的挑戰(zhàn),解決方案之一是采用多束電子束設(shè)備。包括IMS公司、NuFlare公司等已在開發(fā)相關(guān)多束電子束產(chǎn)品,多束電子束設(shè)備能夠提高光掩膜版制作效率,降低成本,還有助于提高光掩膜版的良率。未來,大部分EUV光掩膜版仍可以使用可變形狀電子束設(shè)備來制作,但是對(duì)少數(shù)復(fù)雜芯片而言,要想保持加工速度,必須使用多束電子束設(shè)備。

EUV薄膜,EUV薄膜作為光掩膜的保護(hù)層,提供阻隔外界污染的實(shí)體屏障,可以防止微塵或揮發(fā)氣體污染光掩膜表面,減少光掩膜使用時(shí)的清潔和檢驗(yàn)。阿斯麥公司已經(jīng)開發(fā)出83%透射率的薄膜,在采用245W光源,測試可達(dá)到100 片晶圓/時(shí)吞吐量,阿斯麥的目標(biāo)是開發(fā)出透射率90%的透明薄膜,可承受300W的EUV光源,實(shí)現(xiàn)125片晶圓/時(shí)的吞吐量。

初期,EUV光刻還是主要應(yīng)用于高端邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片的生產(chǎn),主要芯片企業(yè)已相繼宣布了各自導(dǎo)入EUV光刻的計(jì)劃。

強(qiáng)攻 10 納米節(jié)點(diǎn) 英特爾以色列擴(kuò)廠獲1.85億美元補(bǔ)助

強(qiáng)攻 10 納米節(jié)點(diǎn) 英特爾以色列擴(kuò)廠獲1.85億美元補(bǔ)助

雖然日前處理器大廠英特爾(intel)宣布,為了解決 14 納米產(chǎn)能不足的問題,預(yù)計(jì)針對(duì)旗下包括在以色列的 3 座晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)。不過,早在這個(gè)計(jì)劃之前,英特爾在 2018 年 5 月時(shí)就已經(jīng)宣布,計(jì)劃在以色列擴(kuò)建工廠,并已提交相關(guān)申請(qǐng)。如今,以色列政府針對(duì)英特爾準(zhǔn)備投資 50 億美元的擴(kuò)廠計(jì)劃,同意給予 7 億謝克爾 (約 1.85 億美元) 的政府補(bǔ)助。

事實(shí)上,英特爾是以色列最大的雇主和出口商之一,英特爾的許多新技術(shù)都是在以色列研發(fā)的。另外,英特爾也是科技領(lǐng)域在以色列的最大投資者,其投資金額約為 350 億美元。而為了吸引英特爾繼續(xù)投資,以色列政府提供了一系列優(yōu)惠政策,包括占投資總額 20% 到 30% 的政府補(bǔ)助、降低公司稅、土地征用優(yōu)先權(quán)以及開發(fā)成本補(bǔ)貼等措施。

而對(duì)以色列所提出的相關(guān)優(yōu)惠措施,英特爾也計(jì)劃在 2018 年至 2020 年之間,將在以色列投資 50 億美元,其主要為擴(kuò)大在以色列南部 Kiryat Gat 半導(dǎo)體工廠的產(chǎn)能。Kiryat Gat 半導(dǎo)體工廠的擴(kuò)建工程將在 2019 年啟動(dòng),到 2020 年完工。英特爾之前已表示,計(jì)劃把該工廠的生產(chǎn)制程技術(shù)由現(xiàn)階段的 22 納米,升級(jí)到 10 納米,生產(chǎn)更小、處理速度更快的處理器。

位于以色列南部 Kiryat Gat 的英特爾半導(dǎo)體工廠,英特爾曾經(jīng)在 2014 年投資了 60 億美元來進(jìn)行升級(jí)。其中,5% 為以色列政府補(bǔ)助,而且獲得了 5% 的 10 年企業(yè)租稅優(yōu)惠。后來,在 2016 年到 2017 年期間,英特爾又投資了 60 億美元用于該工廠擴(kuò)建和升級(jí)。

對(duì)于英特爾而言,以色列是重要的發(fā)展據(jù)點(diǎn)之一。在巔峰時(shí)期,英特爾在以色列總共有 3 座半導(dǎo)體工廠。最早的 Fab 8 廠位于耶路撒冷,但是在 2007 年因?yàn)楫?dāng)?shù)鬲q太教徒持續(xù)反對(duì)其在安息日進(jìn)行生產(chǎn)作業(yè),使得英特爾最后放棄該廠的擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃,最終因設(shè)備老舊而停產(chǎn)。至于,另 2 座半導(dǎo)體工廠位于以色列南部 Kiryat Gat 。

受惠于這 2 座半導(dǎo)體工廠的興建,使得原來只有數(shù)千人口和一座紡織廠的 Kiryat Gat,躍升成為一個(gè) 5 萬人口的高科技重鎮(zhèn),同時(shí)吸引了惠普(HP)等一批跨國企業(yè)進(jìn)駐。

而英特爾除了現(xiàn)存的 2 座半導(dǎo)體工廠之外,還在 Haifa、 Yakum、耶路撒冷和佩塔提克瓦等 4 個(gè)城市設(shè)有 4 個(gè)研發(fā)中心,直接雇員超過一萬人。其中,Haifa研究中心是英特爾在美國本土以外規(guī)模最大的研發(fā)中心。也因?yàn)橛⑻貭柵c以色列有如此深厚的合作關(guān)系,也使得相關(guān)投資在以色列持續(xù)進(jìn)行中。

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英特爾不再擠牙膏,Sunny Cove遇上3D封裝

英特爾不再擠牙膏,Sunny Cove遇上3D封裝

前不久英特爾聯(lián)合加州大學(xué)伯克利分校的研究人員開發(fā)了一種新的MESO(磁電自旋軌道)邏輯器件,其工作電壓可以從3V降低到500mV,能耗減少10-30倍,性能提升5倍,該技術(shù)有望取代現(xiàn)有的CMOS半導(dǎo)體工藝,成為未來計(jì)算技術(shù)的基礎(chǔ)。英特爾對(duì)這個(gè)技術(shù)很重視,在宣傳上也不遺余力,這種情況在以往可不多見,畢竟普通人對(duì)枯燥的技術(shù)是沒興趣了解的。

提到半導(dǎo)體工藝,在這個(gè)問題上英特爾被罵了很多年的“擠牙膏”,但事實(shí)上英特爾這幾年來在CPU架構(gòu)、指令集及工藝上還是有不少進(jìn)展的,不過從2014年14nm節(jié)點(diǎn)到現(xiàn)在,英特爾在CPU處理器上確實(shí)沒有取得明顯進(jìn)展,以往兩年一升級(jí)的Tick-Tock鐘擺戰(zhàn)略也完了,所以英特爾被玩家調(diào)侃擠牙膏不是沒理由的。

在上周的英特爾架構(gòu)日活動(dòng)上,英特爾一反常態(tài)地公布了多項(xiàng)CPU架構(gòu)、半導(dǎo)體工藝、芯片封裝以及核顯、獨(dú)顯架構(gòu)上的進(jìn)展。這次會(huì)議雖然規(guī)模很小,但是影響深遠(yuǎn),標(biāo)志著英特爾在未來的芯片架構(gòu)、工藝上的重大變化。今天的超能課堂我們就來聊聊英特爾的這些變化,特別是Sunny Cove架構(gòu)及3D封裝Foreros技術(shù)。

“摩爾定律”到頭了,線寬微縮終有盡時(shí)

如果說英特爾近年來遭遇的難題以及這次轉(zhuǎn)變,繞不過的一個(gè)話題就是摩爾定律,它的提出者戈登·摩爾是英特爾創(chuàng)始人之一,當(dāng)年提出摩爾定律時(shí)還沒有創(chuàng)立英特爾,1965年《電子學(xué)雜志》發(fā)表了時(shí)任仙童半導(dǎo)體工程師戈登·摩爾的一篇文章,他在文中預(yù)言半導(dǎo)體芯片上的晶體管數(shù)量會(huì)以每年翻倍的速度增長,這個(gè)就是“摩爾定律”的由來,這個(gè)定律隨后也在不斷修正,1975年摩爾將其改為每2年晶體管數(shù)量翻倍。

英特爾不再擠牙膏,Sunny Cove遇上3D封裝

摩爾定律

摩爾定律在過去50年中成為半導(dǎo)體行業(yè)的金科玉律,指導(dǎo)著行業(yè)技術(shù)發(fā)展,英特爾也成為摩爾定律最堅(jiān)定的支持者,之前的Tick-Tock戰(zhàn)略實(shí)際上就是摩爾定律的變種,2年升級(jí)一次工藝、架構(gòu),每次升級(jí)都會(huì)大幅降低晶體管成本,提升晶體管密度。

但是摩爾定律沒法一直持續(xù)下去,隨著晶體管的不斷縮小,人們開始遇到兩個(gè)問題,一個(gè)是技術(shù)上的,10nm節(jié)點(diǎn)及之后,CMOS工藝的柵極氧化層越來越薄,可能只有10個(gè)原子的厚度,導(dǎo)致量子效應(yīng)愈加嚴(yán)重,而光刻工藝也會(huì)越來越難,目前的預(yù)測是5nm節(jié)點(diǎn)實(shí)際上就是摩爾定律的終結(jié)了。

除了技術(shù)原因,經(jīng)濟(jì)效應(yīng)越來越低也是摩爾定律終結(jié)的重要原因,此前半導(dǎo)體工藝升級(jí)會(huì)帶來成本下降,但是隨著工藝微縮困難增加,半導(dǎo)體制造使用的先進(jìn)材料、多重曝光以及EUV光刻機(jī)等都會(huì)大幅增加制造成本,晶體管微縮帶來的成本降低已經(jīng)被增加的成本抵消了。

對(duì)于摩爾定律,F(xiàn)inFET工藝及FD-SOI工藝的發(fā)明人、加州大學(xué)伯克利分校教授,IEEE院士、美國工程院院士、中科院外籍院士胡正明之前提到過“集成電路的發(fā)展路徑并不一定非要把線寬越做越小,現(xiàn)在存儲(chǔ)器已經(jīng)朝三維方向發(fā)展了。當(dāng)然我們希望把它做得更小,可是我們也可以采取其他方法推進(jìn)集成電路技術(shù)的發(fā)展,比如減少芯片的能耗。這個(gè)方向芯片還有1000倍的能耗可以降低。線寬的微縮總是有一個(gè)極限的,到了某種程度,就沒有經(jīng)濟(jì)效應(yīng),驅(qū)動(dòng)人們把這條路徑繼續(xù)走下去。但是我們并不一定非要一條路走到黑,我們也可以轉(zhuǎn)換一個(gè)思路,同樣可能實(shí)現(xiàn)我們想要達(dá)到的目的?!?/p>

英特爾解綁芯片架構(gòu)與工藝,向3D封裝進(jìn)發(fā)

盡管英特爾嘴上依然不承認(rèn)摩爾定律終結(jié),但是這次的架構(gòu)日上英特爾并沒有提及10nm工藝以及未來的7nm工藝具體進(jìn)展,他們重點(diǎn)介紹的其實(shí)不是制造工藝,而是新型封裝技術(shù)Foveros,而3D封裝也被視為后摩爾定律時(shí)代的一個(gè)方向,這也是上面胡正明教授所說的不要一條道走到黑,轉(zhuǎn)換思路的結(jié)果。

英特爾是一家IDM垂直整合型半導(dǎo)體公司,自己設(shè)計(jì)芯片架構(gòu),自己生產(chǎn)芯片,然后自己封裝芯片。就CPU業(yè)務(wù)來說,以往的時(shí)候,英特爾會(huì)針對(duì)不同的工藝開發(fā)不同的CPU架構(gòu),針對(duì)新工藝開發(fā)的架構(gòu)可以最大化利用工藝優(yōu)勢,但是缺點(diǎn)就是架構(gòu)與工藝?yán)壠饋?,不夠靈活,這也是為什么英特爾10nm工藝不斷延期,英特爾不能使用14nm生產(chǎn)10nm架構(gòu),只能耗著等的原因。

現(xiàn)在英特爾學(xué)乖了,工藝跟架構(gòu)分離,萬一工藝延期了,CPU架構(gòu)也不用干等著,理論上英特爾現(xiàn)在就可以用14nm工藝生產(chǎn)原本用于10nm工藝的Ice Lake處理器了。不僅如此,英特爾現(xiàn)在還更上一層樓,帶來了全新的Foveros 3D封裝。

為了讓大家理解Foveros封裝,英特爾做了很詳細(xì)的解釋,簡單來說就是單片時(shí)代處理器內(nèi)部的CPU核心、GPU核心、IO單元、內(nèi)存控制器等子單元都是同一工藝的,但是不同的單元實(shí)際上對(duì)工藝的需求不同,CPU、GPU核心對(duì)性能要求高,上先進(jìn)工藝是值得的,但是IO單元、控制器單元不需要這么先進(jìn)的工藝,所以他們是可以使用不同工藝然后集成到一起的。

在Foveros之前,英特爾推出了EMIB封裝技術(shù),就是把不同的工藝的IP核心集成到一起,而Foveros封裝更進(jìn)一步,不僅具備2D封裝的所有優(yōu)勢,還能大幅重構(gòu)系統(tǒng)芯片。

根據(jù)英特爾所說,該技術(shù)提供了極大的靈活性,因?yàn)樵O(shè)計(jì)人員可在新的產(chǎn)品形態(tài)中“混搭”不同的技術(shù)專利模塊與各種存儲(chǔ)芯片和I/O配置。并使得產(chǎn)品能夠分解成更小的“芯片組合”,其中I/O、SRAM和電源傳輸電路可以集成在基礎(chǔ)晶片中,而高性能邏輯“芯片組合”則堆疊在頂部。

英特爾預(yù)計(jì)將從2019年下半年開始推出一系列采用Foveros技術(shù)的產(chǎn)品。首款Foveros產(chǎn)品將整合高性能10nm計(jì)算堆疊“芯片組合”和低功耗22FFL基礎(chǔ)晶片。它將在小巧的產(chǎn)品形態(tài)中實(shí)現(xiàn)世界一流的性能與功耗效率。

英特爾不再擠牙膏,Sunny Cove遇上3D封裝

AMD在Zen 2處理器上也使用了類似的封裝

在使用3D封裝提升芯片性能、集成度方面,英特爾其實(shí)不孤獨(dú),在他們之前AMD在7nm Zen 2處理器上也使用了類似的理念,其CPU核心使用先進(jìn)的7nm工藝制造,IO核心、內(nèi)存控制器等單元使用的是14nm工藝,然后將兩個(gè)子單元封裝在一起。

英特爾Core內(nèi)核路線圖:大小核時(shí)代來臨,Sunny Cove首發(fā)

在通過Foveros 3D封裝技術(shù)“解決”工藝問題之后,英特爾還需要在CPU架構(gòu)升級(jí)來提升IPC性能,因?yàn)楝F(xiàn)在14nm+++工藝潛力挖掘差不多了,哪怕是未來的10nm工藝量產(chǎn)了,性能恐怕也是無法大幅超越14nm工藝的,所以CPU架構(gòu)對(duì)英特爾的作用比以往更重要。

英特爾不再擠牙膏,Sunny Cove遇上3D封裝

在架構(gòu)日上,英特爾也更新了Core內(nèi)核路線圖,實(shí)際上是分為兩個(gè)類別的,大核心是Core系列,首發(fā)的是Sunny Cove微內(nèi)核,主要聚焦在ST單核性能、全新ISA及并行性三個(gè)方面,之后是Willow Cove,改進(jìn)重點(diǎn)是緩存、晶體管優(yōu)化、安全功能,再往后是Goden Cove內(nèi)核,重點(diǎn)是ST單線程、AI性能、網(wǎng)絡(luò)/5G、安全功能等。

Atom處理器的小核心路線圖升級(jí)周期比Core更長,明年首發(fā)的是Trement,重點(diǎn)提升ST單線程性能、網(wǎng)絡(luò)服務(wù)器及續(xù)航,2021年還會(huì)有Gracemont,重點(diǎn)提升單線程性能及頻率、矢量性能,再往后的架構(gòu)還沒確定,只是一個(gè)方向了。

英特爾不再擠牙膏,Sunny Cove遇上3D封裝

對(duì)PC玩家來說,最期待的還是Sunny Cove架構(gòu),2019年開始它會(huì)是英特爾下一代服務(wù)器及PC處理器的主力架構(gòu)。根據(jù)英特爾所說,該架構(gòu)主要改進(jìn)是:

·增強(qiáng)的微架構(gòu),可并行執(zhí)行更多操作。

·可降低延遲的新算法。

·增加關(guān)鍵緩沖區(qū)和緩存的大小,可優(yōu)化以數(shù)據(jù)為中心的工作負(fù)載。

·針對(duì)特定用例和算法的架構(gòu)擴(kuò)展。例如,提升加密性能的新指令,如矢量AES和SHA-NI,以及壓縮/解壓縮等其它關(guān)鍵用例。

Sunny Cove架構(gòu)與Skylake架構(gòu)對(duì)比

上圖就是Sunn Cove(右)與現(xiàn)有的Skylake架構(gòu)(左)的渲染流水線對(duì)比,后者是2015年發(fā)布的架構(gòu)了,第一代14nm處理器Broadwell由于進(jìn)度關(guān)系沒產(chǎn)生什么影響力,而Skylake架構(gòu)一直衍生出了Kaby Lake、Coffee Lake、Wisky Lake、Cascade Lake等架構(gòu),在移動(dòng)、桌面及服務(wù)器領(lǐng)域全面開花。

在如何實(shí)現(xiàn)CPU IPC性能提升的方式上,英特爾總結(jié)了三個(gè)字——更深(deeper)、更寬(wider)、更智能(smarter),全面提升從前端到執(zhí)行單元的性能、位寬。

在更深方面,Sunny Cove的L1數(shù)據(jù)緩存從32KB增加到48KB,增加了50%,L2緩存、uop緩存、二級(jí)TLB緩存都加大了。

在執(zhí)行管線上,Sunny Cove的分配單元從目前的4個(gè)增加到5個(gè),執(zhí)行接口從8個(gè)增加到10個(gè),L1 Store帶寬翻倍。

前面增加緩存、提升操作次數(shù)的設(shè)計(jì)還需要搭配更好的算法,所以Sunny Cove還要更加智能,提高分支預(yù)測的精度,減少延遲等等。

專業(yè)性能提升

除了前面的更寬、更深、更智能之外,Sunny Cove架構(gòu)在專業(yè)性能上也有改進(jìn),大家可能還記得最早爆料架構(gòu)日新內(nèi)容的時(shí)候就有7-Zip性能提升75%的爆料,這就是Sunny Cove架構(gòu)了加密解密指令集的緣故,其他還有AI、內(nèi)存、網(wǎng)絡(luò)、矢量等方面的改進(jìn)。

全新加密指令可以大幅提升7-Zip的性能

英特爾版的big.LITTLE大小核策略:Sunny Cove與Tremont合體

在擁有了Sunny Cove大核以及Tremont小核之后,再加上3D封裝技術(shù)Foveros,英特爾終于可以做一些不同尋常的產(chǎn)品了。在架構(gòu)日當(dāng)天,英特爾就展示了一種混合X86處理器,大核是Sunny Cove,小核是Tremont,整合了22nm工藝的IO核心以,共享1.5M L2緩存,所有核心共享4MB的LLC緩存,內(nèi)存控制器是4*16位的,支持LPDDR4,整合了Gen 11核顯,有64個(gè)EU單元,Gen 11.5顯示控制器還有新的IPU,支持DP 1.4。

英特爾的這個(gè)混合X86處理器就是很早之前曝光的“Lakefield”的處理器,它將采用“Ice Lake”高性能內(nèi)核和“Tremont”低功耗內(nèi)核,它主要是給移動(dòng)市場準(zhǔn)備的,類似ARM公司的big.LITTLE大小核架構(gòu),需要高性能運(yùn)算的時(shí)候使用大核心,否則使用低功耗核心以降低功耗。

在這個(gè)混合X86處理器上,占用空間小也是個(gè)優(yōu)勢,其尺寸只有12*12*1mm,相當(dāng)于一個(gè)10美分硬幣大小,而且待機(jī)功耗只有2mW,低功耗+小體積的優(yōu)勢非常適合各種移動(dòng)設(shè)備,有助于英特爾更好地跟ARM等移動(dòng)處理器競爭,守衛(wèi)自己的領(lǐng)地。

總結(jié):英特爾靈活應(yīng)對(duì)后摩爾定律時(shí)代,再戰(zhàn)AMD 7nm

總之, 一直自詡為摩爾定律守衛(wèi)者的英特爾也不得不考慮后摩爾時(shí)代的生存問題了,架構(gòu)日上他們還是避而不談10nm工藝以及未來的7nm工藝,如果還是像過去那樣等著先進(jìn)工藝量產(chǎn)才來升級(jí)CPU架構(gòu),那么在面對(duì)早早采用模塊化設(shè)計(jì)思路的AMD競爭時(shí),英特爾只怕更無力應(yīng)對(duì)。

Foveros 3D封裝及Sunny Cove就是英特爾給出的答案,通過封裝不同工藝水平的芯片解決了工藝升級(jí)的問題,而全新設(shè)計(jì)的Sunny Cove架構(gòu)(還有Gen 11核顯這里沒重點(diǎn)介紹)也進(jìn)一步提高了Ice Lake處理器的IPC性能。

根據(jù)英特爾的消息,2019年他們就會(huì)推出Foveros 3D封裝技術(shù)的新一代10nm+22nm工藝Sunny Cove處理器,整合Gen 11核顯,而AMD明年推出的是7nm+14nm工藝的Zen 2處理器及Navi GPU核心。雖然目前還不知道這兩家公司具體的桌面處理器規(guī)格,但是2019年有好戲看是沒跑了。

英特爾放棄對(duì)外晶圓代工業(yè)務(wù),不見得有利臺(tái)積電轉(zhuǎn)單

英特爾放棄對(duì)外晶圓代工業(yè)務(wù),不見得有利臺(tái)積電轉(zhuǎn)單

日前,市場傳出為了能填補(bǔ) 14 納米制程的產(chǎn)能缺口,處理器龍頭英特爾(intel)在進(jìn)行旗下 3 座位于包括美國俄勒岡州、愛爾蘭以及以色列的晶圓廠產(chǎn)能擴(kuò)產(chǎn)之外,還將關(guān)閉對(duì)外定制化晶圓代工業(yè)務(wù)。有相關(guān)人士看好此舉,在英特爾退出晶圓代工市場的情況下,有機(jī)會(huì)對(duì)龍頭臺(tái)積電造成轉(zhuǎn)單效應(yīng)。不過,目前市場分析師表示,原本英特爾晶圓代工市占比例本來就不高,所以轉(zhuǎn)單效應(yīng)其實(shí)有限。

根據(jù)外媒的報(bào)導(dǎo),過去一段時(shí)間以來,英特爾對(duì)無晶圓廠的 IC 設(shè)計(jì)公司開放定制化的晶圓代工服務(wù)是個(gè)錯(cuò)誤決定。因?yàn)檫@不但影響了英特爾在處理器方面的核心競爭力,還因?yàn)槌绦蛏系腻e(cuò)誤,導(dǎo)致近期 14 納米產(chǎn)能不足,使得個(gè)人電腦產(chǎn)業(yè)蒙受處理器缺少所帶來沖擊的結(jié)果。因此,英特爾為了填補(bǔ) 14 納米制程的產(chǎn)能空缺,決定關(guān)閉對(duì)外晶圓代工業(yè)務(wù),專心將珍貴的產(chǎn)能用于自身的產(chǎn)品量產(chǎn)上。

而在此計(jì)劃傳出之后,有人看好在英特爾退出晶圓代工市場之后,將有機(jī)會(huì)為臺(tái)積電帶來轉(zhuǎn)單效益。對(duì)此,市場分析師表示,全球主要 IC 設(shè)計(jì)廠商在保護(hù)自家技術(shù)的考量下,下單給英特爾代工的本來就不多。

即便英特爾退出晶圓代工市場,釋出的市占率極其有限。此外,以臺(tái)積電在全球晶圓代工市占率 55% 來看,就算拿到英特爾釋出的代工訂單,頂多額外增加 1 到 2 個(gè)百分點(diǎn)的市占率,貢獻(xiàn)度不大。

而值得注意的是,目前英特爾本來就有部分低端的芯片組是委外由臺(tái)積電來代工生產(chǎn)的。若未來英特爾不再對(duì)外承接晶圓代工訂單,在優(yōu)先填補(bǔ)自家工廠產(chǎn)能利用率的考量下,這些訂單有可能會(huì)回流,兩相抵銷后,將使得臺(tái)積電的受惠程度更加降低。

所以,由這些角度來觀察,英特爾放棄晶圓代工業(yè)務(wù),除了是想解決 14 納米制程產(chǎn)能不足的問題之外,也為提前為下一世代 10 納米制程進(jìn)入量產(chǎn)做好準(zhǔn)備。如此一來,未來英特爾在晶圓制造的部份,藉由產(chǎn)能與制成的優(yōu)化,可以完全達(dá)到配合設(shè)計(jì)端的目標(biāo)。在雙方磨合更好的情況下,制程進(jìn)度有機(jī)會(huì)加快,反而將會(huì)為臺(tái)積電帶來壓力。

終結(jié)14nm產(chǎn)能不足危機(jī),英特爾宣布擴(kuò)建三座晶圓廠產(chǎn)能

終結(jié)14nm產(chǎn)能不足危機(jī),英特爾宣布擴(kuò)建三座晶圓廠產(chǎn)能

今年Q3季度英特爾突然曝出了14nm產(chǎn)能危機(jī),這件事不僅影響了英特爾自己的產(chǎn)品路線圖,還導(dǎo)致整個(gè)PC業(yè)界也受到了負(fù)面影響,筆記本、主板甚至存儲(chǔ)市場都不同程度下滑。為了解決14nm產(chǎn)能危機(jī),英特爾早前已經(jīng)宣布額外增加15億美元的資本支出,提高14nm產(chǎn)能。本周一,英特爾宣布擴(kuò)建美國俄勒岡州以及以色列、愛爾蘭的晶圓廠產(chǎn)能,未來將大大緩解供應(yīng)不足的問題,將供應(yīng)時(shí)間縮短60%以上。

在14nm晶圓廠上,英特爾最初是規(guī)劃了三座晶圓廠率先升級(jí)14nm工藝,包括美國本土俄勒岡州的D1X晶圓廠、亞利桑那州的Fab 42晶圓廠及愛爾蘭的Fab 24晶圓廠,不過Fab 42晶圓廠升級(jí)14nm工藝的計(jì)劃前幾年被擱置了,不過去年英特爾宣布投資70億美元升級(jí)Fab 42晶圓廠,但這個(gè)是面向未來的7nm工藝的,工廠還在建設(shè)期。

終結(jié)14nm產(chǎn)能不足危機(jī),英特爾宣布擴(kuò)建三座晶圓廠產(chǎn)能

英特爾在全球的產(chǎn)能分布,綠色的是封測工廠,藍(lán)色的是晶圓廠

本周一,英特爾宣布了最新動(dòng)向,除了Fab 42工廠建設(shè)以及新墨西哥州的新一代存儲(chǔ)芯片工廠之外,還提到擴(kuò)建美國俄勒岡州以及以色列、愛爾蘭的晶圓廠產(chǎn)能,目前正在處于制造場地?cái)U(kuò)建的早期規(guī)劃階段,預(yù)計(jì)2019年展開更多建設(shè)活動(dòng)。

英特爾表示擴(kuò)建額外的工廠空間可以幫助英特爾更快速響應(yīng)市場需求,將供應(yīng)所需的時(shí)間縮短60%。

此外,英特爾還提到在自己生產(chǎn)之外還會(huì)有選擇地使用代工廠,言外之意就是證實(shí)了之前的外包部分芯片給臺(tái)積電等代工廠的消息,不過目前依然沒有詳情。

對(duì)于這次的官方聲明,聯(lián)系前不久英特爾日本總裁所說的“2019年底一定會(huì)解決產(chǎn)能不足的問題”的表態(tài),看起來英特爾擴(kuò)建14nm產(chǎn)能的動(dòng)作才是剛剛開始,英特爾現(xiàn)在只是擴(kuò)建工廠而非新建工廠,但也要幾個(gè)月時(shí)間才能完成基礎(chǔ)設(shè)施及設(shè)備安裝工作,14nm產(chǎn)能看樣子還要短缺一段時(shí)間。

關(guān)于英特爾“Foveros”邏輯芯片3D堆疊,看這兩張圖就夠了

關(guān)于英特爾“Foveros”邏輯芯片3D堆疊,看這兩張圖就夠了

在近日舉行的英特爾“架構(gòu)日”活動(dòng)中,英特爾不僅展示了基于10納米的PC、數(shù)據(jù)中心和網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng),支持人工智能和加密加速功能的下一代“Sunny Cove”架構(gòu),還推出了業(yè)界首創(chuàng)的3D邏輯芯片封裝技術(shù)——Foveros。這一全新的3D封裝技術(shù)首次引入了3D堆疊的優(yōu)勢,可實(shí)現(xiàn)在邏輯芯片上堆疊邏輯芯片。

以下兩張圖,是對(duì)這一突破性發(fā)明的詳細(xì)介紹,第一張圖展示了Foveros如何與英特爾?嵌入式多芯片互連橋接(EMIB)2D封裝技術(shù)相結(jié)合,將不同類型的小芯片IP靈活組合在一起,第二張圖則分別從俯視和側(cè)視的角度透視了“Foveros” 3D封裝技術(shù)。

關(guān)于英特爾“Foveros”邏輯芯片3D堆疊,看這兩張圖就夠了

關(guān)于英特爾“Foveros”邏輯芯片3D堆疊,看這兩張圖就夠了

據(jù)悉,英特爾預(yù)計(jì)將從2019年下半年開始推出一系列采用Foveros技術(shù)的產(chǎn)品。首款Foveros產(chǎn)品將整合高性能10nm計(jì)算堆疊“芯片組合”和低功耗22FFL基礎(chǔ)晶片。它將在小巧的產(chǎn)品形態(tài)中實(shí)現(xiàn)世界一流的性能與功耗效率。

繼2018年英特爾推出突破性的嵌入式多芯片互連橋接(EMIB)2D封裝技術(shù)之后, Foveros將成為下一個(gè)技術(shù)飛躍。

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